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Intel chiplets GaN de 19 micrómetros: fabricación en obleas 300 mm (2026)
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Intel chiplets GaN de 19 micrómetros: fabricación en obleas 300 mm (2026)

· Fuente: El Chapuzas Informático

Intel ha presentado a través de su división IFS (Intel Foundry Services) una tecnología revolucionaria de chiplets de Nitruro de Galio (GaN) fabricados sobre obleas GaN sobre silicio de 300 mm, marcando un hito en miniaturización de componentes de potencia.

El aspecto más destacable es el grosor extraordinario del chiplet: la base de silicio mide apenas 19 micrómetros, equivalente aproximadamente a una quinta parte del grosor de un cabello humano. Intel posiciona este chiplet como el GaN más delgado del mundo jamás fabricado a escala comercial.

Características técnicas principales

EspecificaciónValor
Espesor base de silicio19 micrómetros
Formato de oblea300 mm estándar
Longitud de GateHasta 30 nm
Bloqueo de tensión78V máximo
Frecuencia de corte>300 GHz
Control digitalIntegrado en chiplet
Proceso fabricaciónSDBG (Stealth Dicing Before Grinding)

La innovación va más allá del adelgazamiento. Intel integró la lógica de control digital directamente en el chiplet, combinando la sección de manejo de potencia con la de control operacional en una única pieza. Esta integración monolítica simplifica el ensamblado final y mejora la eficiencia energética.

Proceso de fabricación SDBG

Intel utiliza la técnica "Stealth Dicing Before Grinding" para lograr este espesor extremo. El proceso funciona marcando internamente la oblea de 300 mm con láser de precisión, para luego efectuar un desbaste mecánico controlado que reduce el grosor sin comprometer las estructuras semiconductoras ya fabricadas. Este método permite mantener la integridad estructural mientras se logra un perfil ultradelgado.

Ventajas del Nitruro de Galio sobre silicio

Intel enfatiza que el GaN como material superior al silicio tradicional ofrece tres ventajas críticas: soporta tensiones más altas sin degradación, conmuta significativamente más rápido y disipa menor cantidad de energía durante la conversión de potencia. Estas propiedades lo posicionan como material ideal para aplicaciones de conversión de potencia de alta eficiencia y circuitos de radiofrecuencia avanzados.

Aplicaciones y mercado

La compañía sitúa esta tecnología dentro del rango requerido para futuras comunicaciones inalámbricas de próxima generación, aunque mantiene reserva sobre detalles específicos de aplicaciones. Los chiplets GaN de Intel serán disponibles en la cadena de suministro global de IFS, con potencial integración en productos de potencia, RF y telecomunicaciones.

Veredicto

Esta tecnología representa un avance fundamental en miniaturización de dispositivos de potencia GaN, permitiendo la fabricación a escala comercial en equipamiento estándar de 300 mm y abriendo camino a soluciones más compactas y eficientes en conversión de potencia e radiofrecuencia.

Mencionados en esta noticia

IntelChiplets GaN de 19 micrómetrosIntelIntel Foundry Services

Preguntas frecuentes

¿Qué es un chiplet de Nitruro de Galio y por qué es importante?

Es un componente semiconductor ultadelgado (19 micrómetros) que maneja conversión de potencia e radiofrecuencia con mayor eficiencia que silicio. Soporta tensiones altas, conmuta rápidamente y disipa menos energía, ideal para equipos de potencia y comunicaciones inalámbricas.

¿Cuán delgado es realmente un chiplet de 19 micrómetros?

Equivale aproximadamente a una quinta parte del grosor de un cabello humano. Para referencia, es 1/5,263 de un milímetro. Es el chiplet GaN más delgado fabricado comercialmente según Intel.

¿Cómo logra Intel fabricar algo tan delgado sin dañarlo?

Usa una técnica llamada SDBG (Stealth Dicing Before Grinding): marca la oblea con láser internamente y luego la reduce mecánicamente con precisión, manteniendo las estructuras semiconductoras intactas sin comprometer su funcionalidad.

¿En qué productos veremos estos chiplets?

Aplicaciones de conversión de potencia de alta eficiencia, radiofrecuencia y futuras comunicaciones inalámbricas. Intel aún no especifica productos finales concretos, pero estarán disponibles a través de IFS.

¿Por qué usar obleas de 300 mm es relevante?

Las obleas de 300 mm son el estándar industrial global. Que Intel fabrique estos chiplets GaN en formato estándar significa producción a escala comercial viable, no apenas tecnología experimental de laboratorio.